विद्युतचुंबकीय प्रवाहमापी एक उपकरण है जो विद्युतचुंबकीय प्रेरण के सिद्धांत का उपयोग करके प्रवाहकीय द्रव के बाहरी चुंबकीय क्षेत्र से गुजरने पर प्रेरित इलेक्ट्रोमोटिव बल के आधार पर प्रवाहकीय द्रव के प्रवाह को मापता है।
तो आंतरिक परत और इलेक्ट्रोड सामग्री का चयन कैसे करें?
अस्तर सामग्री चयन
■ नियोप्रीन (सीआर):
क्लोरोप्रीन मोनोमर के इमल्शन पोलीमराइजेशन द्वारा निर्मित एक बहुलक।इस रबर अणु में क्लोरीन परमाणु होते हैं, इसलिए अन्य सामान्य प्रयोजन रबर की तुलना में: इसमें उत्कृष्ट एंटी-ऑक्सीकरण, एंटी-ओजोन, गैर-ज्वलनशील, आग लगने के बाद स्वयं बुझने वाला, तेल प्रतिरोध, विलायक प्रतिरोध, एसिड और क्षार प्रतिरोध, और उम्र बढ़ने की क्षमता है। और गैस प्रतिरोध।अच्छी जकड़न और अन्य फायदे।
✔ यह नल के पानी, औद्योगिक पानी, समुद्री पानी और अन्य मीडिया के प्रवाह माप के लिए उपयुक्त है।
■ पॉलीयुरेथेन रबर (पीयू):
इसे पॉलिएस्टर (या पॉलीथर) और डायसोसायनामाइड लिपिड यौगिक द्वारा पॉलिमराइज़ किया जाता है।इसमें उच्च कठोरता, अच्छी ताकत, उच्च लोच, उच्च पहनने के प्रतिरोध, आंसू प्रतिरोध, उम्र बढ़ने के प्रतिरोध, ओजोन प्रतिरोध, विकिरण प्रतिरोध और अच्छी विद्युत चालकता के फायदे हैं।
✔ यह लुगदी और अयस्क लुगदी जैसे घोल मीडिया के प्रवाह माप के लिए उपयुक्त है।
■पॉलीटेट्राफ्लुओरोएथिलीन (P4-PTFE)
यह एक मोनोमर के रूप में टेट्राफ्लुओरोएथिलीन के पोलीमराइजेशन द्वारा तैयार किया गया एक बहुलक है।सफेद मोमी, पारभासी, गर्मी प्रतिरोधी, ठंड प्रतिरोधी, -180 ~ 260 डिग्री सेल्सियस लंबे समय तक इस्तेमाल किया जा सकता है।इस सामग्री में एसिड और क्षार प्रतिरोध, विभिन्न कार्बनिक सॉल्वैंट्स के प्रतिरोध, उबलते हाइड्रोक्लोरिक एसिड, सल्फ्यूरिक एसिड, एक्वा रेजिया, केंद्रित क्षार संक्षारण के प्रतिरोध की विशेषताएं हैं।
✔ संक्षारक एसिड और क्षार नमक तरल के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है।
■पॉलीपरफ्लुओरोएथिलीन प्रोपलीन (F46-FEP)
इसमें उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता और उत्कृष्ट विकिरण प्रतिरोध, साथ ही गैर-ज्वलनशीलता, अच्छे विद्युत और यांत्रिक गुण हैं।इसके रासायनिक गुण पॉलीटेट्राफ्लुओरोएथिलीन के बराबर हैं, मजबूत संपीड़न और तन्य शक्ति के साथ पॉलीटेट्राफ्लुओरोएथिलीन से बेहतर है।
✔ संक्षारक एसिड और क्षार नमक तरल के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है।
■विनाइल ईथर (पीएफए) के माध्यम से टेट्राफ्लोरोएथिलीन और पेरफ्लूरोकार्बन का कोपोलिमर
विद्युत चुम्बकीय प्रवाहमापी के लिए अस्तर सामग्री में F46 के समान रासायनिक गुण होते हैं और F46 की तुलना में बेहतर तन्य शक्ति होती है।
✔संक्षारक एसिड और क्षार नमक तरल के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है।
इलेक्ट्रोड सामग्री चयन
| 316एल | यह घरेलू सीवेज, औद्योगिक सीवेज, कुएं के पानी, शहरी सीवेज आदि और कमजोर संक्षारक एसिड-बेस नमक समाधान के लिए उपयुक्त है। |
| हास्टेलॉय (एचबी) | गैर-ऑक्सीकरण एसिड जैसे हाइड्रोक्लोरिक एसिड (एकाग्रता 10% से कम) के लिए उपयुक्त।सोडियम हाइड्रॉक्साइड (सांद्रता 50% से कम) सभी सांद्रता का सोडियम हाइड्रॉक्साइड क्षार समाधान।फॉस्फोरिक एसिड या कार्बनिक एसिड आदि, लेकिन नाइट्रिक एसिड उपयुक्त नहीं है। |
| हास्टेलॉय (एचसी) | मिश्रित अम्ल और क्रोमिक एसिड और सल्फ्यूरिक एसिड का मिश्रित घोल।ऑक्सीकरण करने वाले लवण जैसे Fe+++, Cu++, समुद्री जल, फॉस्फोरिक एसिड, कार्बनिक अम्ल आदि, लेकिन हाइड्रोक्लोरिक एसिड के लिए उपयुक्त नहीं हैं। |
| टाइटेनियम (टीआई) | क्लोराइड (जैसे सोडियम क्लोराइड/मैग्नीशियम क्लोराइड/कैल्शियम क्लोराइड/फेरिक क्लोराइड/अमोनियम क्लोराइड/एल्यूमीनियम क्लोराइड, आदि), लवण (जैसे सोडियम नमक, अमोनियम नमक, हाइपोफ्लोराइट, पोटेशियम नमक, समुद्री जल), नाइट्रिक एसिड (लेकिन) पर लागू होता है। फ्यूमिंग नाइट्रिक एसिड शामिल नहीं), कमरे के तापमान पर ≤50% सांद्रता वाले क्षार (पोटेशियम हाइड्रॉक्साइड, सोडियम हाइड्रॉक्साइड, बेरियम हाइड्रॉक्साइड, आदि) लेकिन इन पर लागू नहीं: हाइड्रोक्लोरिक एसिड, सल्फ्यूरिक एसिड, फॉस्फोरिक एसिड, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड, आदि। |
| टैंटलम इलेक्ट्रोड (टा) | हाइड्रोक्लोरिक एसिड (एकाग्रता ≤ 40%), पतला सल्फ्यूरिक एसिड और केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड (फ्यूमिंग नाइट्रिक एसिड को छोड़कर) के लिए उपयुक्त।क्लोरीन डाइऑक्साइड, फेरिक क्लोराइड, हाइपोफ्लोरस एसिड, हाइड्रोब्रोमिक एसिड, सोडियम साइनाइड, लेड एसीटेट, नाइट्रिक एसिड (फ्यूमिंग नाइट्रिक एसिड सहित) और एक्वा रेजिया पर लागू होता है जिसका तापमान 80 डिग्री सेल्सियस से कम है।लेकिन यह इलेक्ट्रोड सामग्री क्षार, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड, पानी के लिए उपयुक्त नहीं है। |
| प्लैटिनम इलेक्ट्रोड (पीटी) | लगभग सभी एसिड-बेस नमक समाधानों (फ्यूमिंग नाइट्रिक एसिड, फ्यूमिंग सल्फ्यूरिक एसिड सहित) पर लागू होता है, इन पर लागू नहीं होता है: एक्वा रेजिया, अमोनिया नमक, हाइड्रोजन पेरोक्साइड, केंद्रित हाइड्रोक्लोरिक एसिड (>15%)। |
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पोस्ट समय: जनवरी-05-2023